|
Vejledende placering: På ethvert tidspunkt i studiet |
|
Undervisningsform: Selvstændigt eksperimentelt arbejde i 3 uger, 8 timer pr. dag. |
|
Evalueringsform: Bedømmelse af opgave(r)/rapport(er)
|
| Karakter: bestået/ikke bestået |
| Tidligere kursus: 44470 |
| Faglige forudsætninger: 10207.21010 / 10004 / 10005 |
| Pointspærring: 44470 |
| Kursusmål: At introducere dig til de eksperimentelle teknikker, der benyttes ved fremstillingen og karakteriseringen af halvlederkomponenter. |
Kursusindhold: Kurset består af et projektorienteret eksperimentelt forløb, hvor indholdet i projektet har nær tilknytning til konkrete forskningsprojekter på MIC. Emnerne for projekterne varierer derfor fra semester til semester. Eksempler på gennemførte projekter:
Evaluering af CMOS-SOI transistorer.
Optimering af extern basis Bor implantation for SiGe HBT transistorer.
Optimering af dyrkningsbetingelser for reaktiv sputtering af tantal oxid på silicium.
Relation mellem dyrkningsbetingelser og piezocoefficient for polykrystallinsk silicium. |
| Bemærkninger: Kurset udgør den eksperimentelle indgang til MICs undervisningstilbud og er en nødvendig forudsætning for visse typer af eksamensprojekter ved MIC. |
| Kontaktperson: Ole Hansen, building 345ø, (+45) 4525 5715, oh@mic.dtu.dk |
| Institut: 033 Mikroelektronikcentret |
| Nøgleord: halvlederteknologi, transistorer, mikroteknologi, mikrolitografi, tyndfilm |
| Opdateret: 07-05-2001 |
